影像雨紋去除方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

109129122

專利證號

I 734598

專利獲證名稱

影像雨紋去除方法

專利所屬機關 (申請機關)

元智大學

獲證日期

2021/07/21

技術說明

雨、霧或雪的各種天氣條件可能會降低圖像/視頻的視覺質量，這可能會大大降低相關應用程序的性能。本文提出了一種基於順序雙關注深度網絡的新穎框架，用於消除單個圖像中的雨紋。由於圖像中雨條紋跟雨條紋之間的固有相關性應強於雨條紋和背景像素之間的固有相關性，因此實施了兩階段學習策略以更好地捕獲雨圖像中雨條紋的分佈。兩階段的深度神經網絡主要包含三個模塊：殘差密集模塊（RDB），順序雙注意模塊（SDAB）和多尺度特徵聚合模塊（MAM），這些模塊均經過精心設計並專門用於除雨。兩階段策略成功地學習了圖像的雨滴的非常精細的細節，然後將其清除。大量的實驗結果表明，與最先進的方法相比，所提出的深度框架在定性和定量指標上均達到最佳性能。目前文獻尚無比本技術有更優越的表現。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作組

連絡電話

(03)4638800#2286

網址