高度陣列式排列的氧化鋁-氧化鋅複合奈米線的製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

095122170

專利證號

I 323298

專利獲證名稱

高度陣列式排列的氧化鋁-氧化鋅複合奈米線的製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2010/04/11

技術說明

本發明主要揭示了在一種高度陣列式排列的藍光氧化鋁-氧化鋅複合奈米線的製備方 法，在鍍有氧化鋅薄膜的矽基板上，經由一種簡單的化學溶液法，在低溫(60-95oC)成 長氧化鋅奈米線(或奈米柱)，再經過浸入Al離子解膠水溶液，最後再置入氣氛爐中做快 速熱處理退火。可得到具有單晶的wurtzite結構的氧化鋅奈米線陣列，由SEM分析可以 得知，此複合奈米線直徑約為20-100nm。

備註

本部(收文號1060016225)同意該校106年3月7日交大研產學字第1061002219號函申請終止維護專利

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