發明
中華民國
090014
163777
銅導線製作方法
財團法人國家實驗研究院
2002/10/01
本發明揭示一種應用於半導體元件之銅導線製作方法,其首先以一非晶矽材料形成所製造元 件之金屬線及其金屬線間栓塞之結構,並利用一銅接觸置換技術取代該非晶矽材料,而形成 包含銅金屬線及銅介層洞栓塞之該銅導線結構。本發明可克服目前雙鑲嵌(Dual Damascene) 製程發展之瓶頸,可輕易地形成所需之高深寬比之栓塞、防止該銅導線間之介 電材料的性質劣化、不需沈積銅阻障層以及可克服目前以化學機械研磨進行銅導線平坦化時 之淺碟化問題。
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