一種奈米線與量子點的製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094128964

專利證號

I 254378

專利獲證名稱

一種奈米線與量子點的製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2006/05/01

技術說明

一種奈米線與量子點的製造方法,其步驟包含提供一矽基板,提供一感應耦合電漿設備,並將該矽基板置於該感應耦合電 漿設備的反應室中,通入氫氣至該反應室內,以及使用一預設操作電漿功率,並同時對該矽基板施加一適當的偏壓(bias pressire),於200-400度下對該矽基進行乾蝕刻,藉此即可製得該奈米線或該量子點.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址