發明
中華民國
094112069
I 271550
微型光柵的製造方法
國立中興大學
2007/01/21
一種微型光柵的製造方法,主要是以半導體製程及/或翻模製程,將基板成型出具有預定圖像形狀的成型空間以作為母 模使用,再利用固化後透明且受外力作用時產生可回復地形變的液態成型材灌注,待成型材固化後、脫模,即可得到欲 製造的微型光柵,製得的微型光柵再無受力狀況時,如同一般光柵一般,可使光通過時產生繞設而形成複數繞設階光 束,且在承受外力後可以產生有限度的形變,以承受外力作用不破裂,而適用於未來可以捲屈收折的光學系統或是光學 產品中。
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