仿生吸盤陣列及其製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

106122919

專利證號

I 656956

專利獲證名稱

仿生吸盤陣列及其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2019/04/21

技術說明

本研究以旋轉塗佈技術製備大面積非連續堆積單層二氧化矽膠體晶體/ETPTA高分子複合材料於矽晶圓基材表面，後利用活性離子蝕刻其複合材料；再以聚乙烯醇(PVA)將二氧化矽轉至於PVA中，作為吸附材料之模板；爾後將聚二甲基矽氧烷(PDMS)灌入模具之中，以製備吸盤結構陣列於聚二甲基矽氧烷上，其吸盤結構塗佈材料，能同時具有凡德瓦力、壓力差所產生之吸附力，可附著於乾燥或潮濕的玻璃平滑表面。 This research reports a scalable fabrication of non-close-packed silica colloidal crystal/polyethoxylated trimethylol propane triacrylate (ETPTA) composites on silicon wafer, by a spin-coating technology and followed by dry etching to form the specific structure (the mushroom structure). The silica colloidal crystals can be used as a template to create sub-micrometer-scale biomimetic sucker structure arrays on polydimethylsiloxane (PDMS). Due to the sucker adhesion mechanism, the as-prepared materials can adhere on either dry or wet surface. Moreover, the sub-micrometer-scale sucker exhibit strong adhesion on wet surface. Furthermore, the effect of sucker structure on adhesion is investigated in this study.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

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