可撓防偽標籤之製作方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

106146312

專利證號

I 664063

專利獲證名稱

可撓防偽標籤之製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2019/07/01

技術說明

本發明藉改變奈米結構之尺寸與圖案排列以調控光於奈米結構之路徑發展具奈米半球結構鎳模具，並使用高分子聚合物轉印結構製成防偽標籤以期藉奈米結構產生特有之色彩變化達到仿偽作用。此防偽標籤之製程整合陽極氧化鋁製程、半導體黃光微影製程、奈/微米電鑄法及奈米壓印技術。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

連絡電話

04-22851811

網址