發明
中華民國
089122592
I 223672
改良的離子輔助濺鍍製裎
財團法人國家實驗研究院
2004/11/11
改良的離子輔助濺鍍製裎
1.科技部計畫:儀器科技發展計畫(2000年公務預算) 2.發明人:江政忠 ;李正中 ;戴國良 ;劉旻忠 ;吳美芳 ;何英哲 本部(收文號1050070266)同意該院105年8月23日國研業字第1050102309號函申請終止維護專利
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