光波長偏移變異方法METHOD FOR MODITYING OPTICAL WAVELENGTH SHIFT

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

102109871

專利證號

I 464372

專利獲證名稱

光波長偏移變異方法METHOD FOR MODITYING OPTICAL WAVELENGTH SHIFT

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2014/12/11

技術說明

本發明之主要目的係在提供一種光波長偏移變異方法，俾能簡化光波長偏移步驟，改善使用彈性。為達成上述目的，本發明光波長偏移變異方法，包括以下步驟：提供一光偏移變異材料，其中該光偏移變異材料之光折射率對波長之分佈為一具有波峰區及波谷區之曲線，且該波峰區最高折射率峰值之對應波長為λmax1，該波谷區最低折射率之對應波長為λmin；而後將n個具有中心波長λcn之光投射於該光偏移改質材料，其中n為大於或等於1之整數，且該中心波長λcn與該波谷區最低反射率之對應波長之λmin之差值小於1μm，或該中心波長λcn與該波峰區最高折射率之對應波長λmax之差值小於1μm;；以及收集或偵測自該光偏移變異材料反射且波長為λmax2之反射光，其中該反射光之光最高強度對應波長，並符合以下之算式： 。 The purpose of this invention is to offer a technique varying the incident wavelength spectrum. To achieve this goal, a material that has a mountain-valley reflectence R distribution is used. The wavelength at which R peaks is λmax1 and R minimum is λmin. The incident wave peak is at λc. After the reflection, the reflected wave has the λmax2 at is peak. The equation must be satisfied: λmax2=λcn±Δλ，Δλ<1μm.

備註

本部(文號1090000062)同意該校108年12月31日興產字第1084300814號函申請終止維護專利(中興)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

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