反應性濺鍍系統及其製程

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

106142308

專利證號

I 655307

專利獲證名稱

反應性濺鍍系統及其製程

專利所屬機關 (申請機關)

逢甲大學

獲證日期

2019/04/01

技術說明

本發明為一種反應性濺鍍系統及其製程，包含處理器、濺鍍槍、參數感測器、比例積分微分控制器、反應氣體流量控制器、靶材、被濺鍍物及真空腔體，處理器分析參數感測器建立遲滯曲線，找出過渡區並決定設定點，發送設定訊號至參數感測器，發送參數訊號至反應氣體流量控制器，參數感測器儲存設定訊號，反應氣體流量控制器分析參數訊號產生流量參數及控制參數，在濺鍍過程中，參數感測器感測靶材的電漿光譜強度及放電電壓電流，當強度到達設定點時遂切換流量參數至相對應設定點的流量參數，同時切換控制參數至相對應設定點的控制參數，達到動態切換流量參數以及控制參數。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

連絡電話

(04)24517250-6811

網址