發明
中華民國
100141564
I 451570
多位元電阻切換記憶體元件與陣列
國立交通大學
2014/09/01
本發明提出一與現有CMOS製程技術相容的新穎多位元非揮發性電阻式記憶體元件與其操作方法和陣列架構。有別於傳統電阻式記憶體多利用金屬層-氧化層-金屬層(MIM)的電容結構,本元件利用一具有金屬閘極與阻值切換特性的閘極氧化物的場效電晶體結構,藉由控制靠近源極與汲極區域局部的閘極氧化物阻值切換,達到多位元記憶儲存,有效地增加單位面積內的記憶體密度,為一低成本、高密度的非揮發性記憶體解決方案。同時同一元件可利用於邏輯電路與記憶體陣列,降低製程複雜度,在嵌入式應用上非常具有吸引力。 The invention relates a multi-bit resistive-switching nonvolatile memory cell, array architecture, and operation method fully compatible with the standard CMOS technology. Instead of the metal-insulator-metal (MIM) capacitor structures most popular in conventional resistive-switching memory cells, the proposed cell utilizes a standard MOSFET structure with a resistive-switching gate oxide layer and a metal gate. The feature of multi-bit-per-cell is realized by independent, localized resistive switching at the drain and source bits, respectively, and enables doubled bit density per unit area, desirable for low-cost and high-density resistive-switching memory implementation. Furthermore, an identical device can be used as a logic switch, a RS memory, or an interchangeable logic/memory multifunctional device. It reduces the process complexity for embedded applications where both logic circuitry and memory array are present.
本部(收文號1100065219)同意該校110年10月27日陽明交大研產學字第1100036963號函申請終止維護專利(陽明交大)
智慧財產權中心
03-5738251
版權所有 © 國家科學及技術委員會 National Science and Technology Council All Rights Reserved.
建議使用IE 11或以上版本瀏覽器,最佳瀏覽解析度為1024x768以上|政府網站資料開放宣告
主辦單位:國家科學及技術委員會 執行單位:台灣經濟研究院 網站維護:台灣經濟研究院