含有機污染物之場址的化學還原整治方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

102129483

專利證號

I 481568

專利獲證名稱

含有機污染物之場址的化學還原整治方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2015/04/21

技術說明

一種含有機污染物之場址的整治方法，該有機污染物含有可被還原有機污染物，該方法包含該可被還原有機污染物的處理步驟，該步驟包含：(a)調配鹼性抗壞血酸溶液，其pH值範圍為11.8以上，其中，該鹼性抗壞血酸溶液是由抗壞血酸及鹼性試劑混合而得，該鹼性試劑是用於使該鹼性抗壞血酸溶液的pH值範圍為11.8以上；(b)將該鹼性抗壞血酸溶液加入該場址中，以獲得pH值範圍為11.8以上的混合液；及(c)使該混合液中的可被還原有機物進行還原反應而獲得處理液。本發明整治方法藉由使用鹼性抗壞血酸溶液而能有效地去除場址中的有機污染物。 A method for remediating reducible organics contaminated sites includes procedures of (a) adjusting pH to above 11.8 in ascorbic acid solutions which may combine ascorbic acid and alkaline reagents; (b) to inject the prepared solution in a site and maintain pH above 11.8; (c) reducible organics undergo reduction reaction to be degraded. This invented remediation method employing alkaline ascorbic acid can effectively remove organic contaminants in contaminated sites.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

連絡電話

04-22851811

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