週期性奈米孔洞狀結構陣列之製造方法及其用途

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101117045

專利證號

I 476144

專利獲證名稱

週期性奈米孔洞狀結構陣列之製造方法及其用途

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2015/03/11

技術說明

本發明提供一種週期性奈米孔洞狀結構陣列之製造方法，包括: 於一基材上形成一氧化物薄膜；將該氧化物薄膜進行一親水性處理；於該氧化物薄膜上形成一奈米球陣列；在第一蝕刻條件中，對該奈米球陣列進行第一蝕刻;以及在第二蝕刻條件中，以該奈米球陣列作為光罩，對該氧化物薄膜進行第二蝕刻，其中第一蝕刻條件與第二蝕刻條件之蝕刻參數已最佳化，俾使製程簡化且成本低廉。本發明亦提供一種抗反射層，藉由以前述之方法所製造之週期性奈米孔洞狀結構陣列，來更有效抑制各種波長範圍中的表面反射，應用於光電元件上可增加其效能。 The present invention provides a method for preparing a periodic nanohole structure array, comprising forming an oxide film onto a substrate; hydrophilically treating the oxide film; forming a nanosphere array on the oxide film; performing a first etching step to etch the nanosphere array in a first etching condition; and performing a second etching step to etch the oxide film using the nanosphere as a etching mask in a second etching condition, wherein the parameters during the first and second etching steps are optimized such that the process can be simplified and the cost can be reduced. An anti-reflective layer is also provided herein to suppress surface reflection over a wide range of wavelengths, and thereby optical performances will be enhanced when applied in an optoelectronic device.

備註

本部(收文號1100075104)同意該校110年12月24日校研發字第1100095825號函申請終止維護專利(台大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址