多層多工共焦顯微之光源裝置與系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

107101123

專利證號

I 673516

專利獲證名稱

多層多工共焦顯微之光源裝置與系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2019/10/01

技術說明

專利申請表之圖中所是為多深度共軛焦檢測系統的基本架構。已兩層深度掃描與螢光樣本為例，首先入射光(Incident beam)由不同入射角照亮多工全像光柵(MVHGs)；此時將會有兩道不同波前的照明光源，利用圓柱透鏡(Cylindrical Lens)將兩道照明光聚焦為兩條線並借由高倍率物境(Objective lens)調整其N.A.值。由於其光波前的不同，因此兩條線將會在不同的焦平面上聚焦，如同圖中所示。 經由不同深度的掃描光線散射，並經由彩色濾光鏡(Dichroic mirror)將激發後的螢光接收，並利用雙狹縫將鏡筒透鏡(Tube lens)聚焦後的影像光線產生共軛焦的效果，並成像在CCD上。此項技術的優點在於，不需要任何機械式的深度掃描，並能同時在CCD上對多深度成像，另外借由重新設計多工全像光柵及能達到更多層的深度同時程向的效果，並且也不侷限於螢光成像。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址