材料表面上產生可儲存資料內容之奈米圖案之方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097116328

專利證號

I 405711

專利獲證名稱

材料表面上產生可儲存資料內容之奈米圖案之方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中正大學

獲證日期

2013/08/21

技術說明

要在金屬上產生圖樣的研究中，多半是一點一點的長上去，或直接壓出圖樣，又或以蝕刻的方式產生圖樣，然而如此對於商品化的應用上存在著極大的限制。藉本發明人基於多年從事研究與諸多實務經驗，經多方研究設計與專題探討，遂於本發明提出一種材料表面上產生奈米圖案之方法以作為前述期望一實現方式與依據。 本發明係揭露一種於材料表面上產生奈米圖案之方法，此於材料表面上產生奈米圖案之方法包含步驟有覆上可控制晶格方向之金屬薄膜，提供奈米壓痕動作，作用於可控制晶格方向之金屬薄膜上，於其一特定位置產生一壓痕，致使於一特定方向上產生至少一突點以產生圖案，可使用於資料儲存方法等應用。 The invention disclosed a method for generating nano patterns upon material surfaces. The method for generating nano patterns upon material surfaces includes following steps: coated a metal thin film capable of controlling lattice directions, provided nanoindentation for use in the metal thin films capable of controlling the lattice directions to generate an indentation at a specific position. At least one hillock is then generated on a specific direction to be applied in data storage method.

備註

本部(收文號1080046170)同意該校108年7月11日中正研發字第1080006426號函申請終止維護專利

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