微光學結構的製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

103102492

專利證號

I 531051

專利獲證名稱

微光學結構的製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣師範大學

獲證日期

2016/04/21

技術說明

本專利結合黃光微影，大氣電漿疏水化處理及光阻掀離(lift-off)製程，對超疏水膜進行圖案化定義，應用於液珠微透鏡陣列之製程開發，此液珠微透鏡陣列固化後即可形成高分子微透鏡陣列。本專利使用壓縮空氣為製程氣體，搭配六甲基二矽氮烷有機矽烷單體，即可製備出水接觸角可達到150左右，平均表面粗糙度Ra ≒ 500 nm之超疏水膜。另外，於微透鏡所使用之液體內摻入螢光粉，可形成內含螢光粉的微透鏡開發，應用於藍光LED封裝製程之開發，使其晶片兼具提升光萃取效率及白光轉換之功能。 This patent combines lithography, atmospheric plasma treatment, and lift-off process to pattern the hydrophobic film, which can be used to fabricate liquid microlens array (LMLA). This LMLA can be UV cured to form the polymer-based microlens array. Nano-scaled phosphor powder can be also added into the liquid of LMLA for LED packaging, which can enhance the light extraction efficiency, and has the conversion function of from blue to white light.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作組

連絡電話

77341329

網址