光學膜、光學膜組件及其製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

106127096

專利證號

I 663122

專利獲證名稱

光學膜、光學膜組件及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2019/06/21

技術說明

利用脈衝直流濺鍍系統低成本、高產量，以及氮化物介質材料之高硬度且物化特性良好之材料特性，發展超硬薄膜技術，利用電漿理論與技術，開發脈衝直流磁控濺鍍系統，改進反應濺鍍化合物薄膜時反應不完全所造成的吸收，此系統也可增加成膜能量以提高薄膜製密性，進而研發出一具有高機械及光學品質的新型濺鍍方法，並應用此新型濺鍍技術鍍製高透明性硬質薄膜如氮化鋁矽鈦、氮氧化鋁矽鈦，最後引進光學薄膜理論設計多層膜濾光片使觸控螢幕擁有高硬度及高可見光穿透率。 The extra-hard thin film technique has been developed using a high-power impulse magnetron sputtering deposition technology. The thin-film materials are Al, Si, and Ti based nitride which are included the properties of high hardness, good physical / chemical resistance, and easy produce. In this research, the plasma technique will be implemented to develop the high-power impulse source to improve the deposition rate, deposition energy and the stability of plasma. Then the system is applied to deposit the transparent hard films. Finally, the multilayer transparent hard films on thin glass for touch screens will be designed and manufactured.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

網址