量測物體位移至次奈米級解析度之方法與設備

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092121010

專利證號

204822

專利獲證名稱

量測物體位移至次奈米級解析度之方法與設備

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2004/05/21

技術說明

本發明係利用傳統光學干涉法量測物體面外位移，但傳統光學干涉法限於光源，精 度最高僅 達光源波長的二分之一，變形量小於波長的二分之一即無干涉條紋。本發明提出創 新光強分 析方法，可直接對物體變形量小於光源波長二分之一之光學干涉影像作處理，例如 量測物體 變形量約波長四分之一，亦可應用於顯微光學干涉法，運用放大或顯微鏡組可對次 微米級以 下尺寸試件進行分析，若能搭配高解析度黑白攝影機，將適用於次微米級以下尺寸 物件之奈 米變形量測分析。整合此方法設備配合相關光學干涉法 ，期可製作一可攜式具次 奈米級面 外位移量測設備，具新穎性及市場競爭性，應可獲得相關產業之青睞而獲相關授權 之可能。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

連絡電話

(07)525-2000#2651

網址