레티클 보호막 검사 방법 및 검사 시스템

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

南韓

專利申請案號

10-2020-0080602

專利證號

10-2434550

專利獲證名稱

레티클 보호막 검사 방법 및 검사 시스템

專利所屬機關 (申請機關)

南臺學校財團法人南臺科技大學

獲證日期

2022/08/17

技術說明

【中文】 本發明提供一種光罩之保護膜的檢測方法，是利用外施加一預定壓力，令保護膜產生形變，再透過量測計算該保護膜的形變量、楊氏模數，及撓剛度的其中至少一種，而可透過該保護膜的形變量、楊氏模數，及撓剛度的其中至少一種數據，得到關於該保護膜的檢測結果，以檢測該保護膜的品質。 【英文】 This invention provides a method for detecting a pellicle membrane of a photomask. A predetermined pressure is applied to deform the pellicle membrane, and measure the deformation, Young's modulus, and flexural stiffness of the protective film. At least one of them can be obtained through at least one of the deformation amount, the Young's modulus, and the flexural rigidity of the pellicle membrane to obtain a detection result about the pellicle membrane to detect the quality of the pellicle membrane.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

研究發展暨產學合作處

連絡電話

06-2531841

網址