疏水層、其製作方法、具疏水層的物品及模具的製作方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101133719

專利證號

I 461302

專利獲證名稱

疏水層、其製作方法、具疏水層的物品及模具的製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣師範大學

獲證日期

2014/11/21

技術說明

超疏水處理技術已在自潔元件、微流道系統及生物相容性等潛在應用備受關注，而本研究則試圖以大氣電漿系統，於低溫下(150 C)快速沉積超疏水薄膜。此外，本研究亦探討疏水膜之表面形貌、成分與物理特性，並結合黃光微影及光阻掀離(lift-off)製程，對超疏水膜進行圖案化，應用於液珠微透鏡陣列(liquid micro lens array, LMLA)之製程開發，完成元件後，並於微透鏡所使用之液體內摻入螢光粉，進行藍光LED封裝製程之開發，使其晶片兼具提升光萃取效率及白光轉換之功能。實驗結果顯示，使用壓縮空氣(clean dry air, CDA)為製程氣體，搭配六甲基二矽氮烷(hexamethyldisilazane, HMDS)有機矽烷單體，製備出水接觸角可達到150左右，平均表面粗糙度Ra ≒ 500 nm之超疏水膜。 This patent attempts to deposite superhydrophobic films using a low-cost atmospheric plasma process (APP) at the conditions of low temperatures (150 oC) and high deposition rate. The morphology, composition, and physical characteristics of hydrophobic films have been explored. Moreover, a technique, which combines photolithography and lift-off process to pattern the super-hydrophobic film, has been developed for fabricating liquid microlens array (LMLA). Nano-scaled phosphor powder was also added into the liquid of LMLA for LED packaging, attempt to enhance the light extraction efficiency and white light conversion function. The results show that by using clean dry air (CDA) as the process gas, N2 as carrier gas of hexamethyldisilazane (HMDS) monomer, a super-hydrophobic film has been produced, which has water contact angle close to 150o and average surface roughness (Ra) of ~500 nm.

備註

依111.9.7.本會111年第3次研發成果管理審查會決議辦理 本會(收文號1110031714)同意該校111年6月1日師大研合字第1111014018號函申請終止維護專利(國立臺灣師範大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作組

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77341329

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