一種可在高鹽環境下進行染料脫色及產電之新穎菌株

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099130133

專利證號

I 394833

專利獲證名稱

一種可在高鹽環境下進行染料脫色及產電之新穎菌株

專利所屬機關 (申請機關)

國立宜蘭大學

獲證日期

2012/03/16

技術說明

本研究自蘭陽平原本土篩選純化並作16S rRNA菌種親緣樹分析鑑定得到耐鹽脫色菌株: Exiguobacterium acetylicum NIU-K4，並發現具有染料脫色能力，NIU-K4其氯化鈉之最高耐受濃度分別可達130 g L-1，將所篩菌株於高鹽環境(例如:約60 g L-1 NaCl海水)條件下發現仍具有優異之偶氮染料脫色能力，依據劑量響應曲線顯示菌株於不同濃度之NaCl, KCl, NaNO3, KNO3等環境下之生長活性來量化其耐受性發現: 就菌株對不同鹽類下之耐受性(以下EC50表之(單位):g L-1)來作比較可得如下關係，氯化鈉: NIU-K4(53.9)，氯化鉀: NIU-K4(59.0)，硝酸鈉: NIU-K4(65.0)，硝酸鉀: NIU-K4(69.4)；而於正常培養條件下最大比脫色速率 (單位: mg L-1 ODU-1 h-1)對NIU-K4而言分別為RB5 (26.4)，RB160 (7.68)，而於60 g L-1氯化鈉含RB5染料培養條件下則發現為 NIU-K4之比脫色速率為29.5，且此菌株且在微生物燃料電池中具有產電之功能。 We isolated halotolerant strain Exiguobacterium acetylicum NIU-K4 which was shown to be tolerant in the environment of 130 g L-1 NaCl. Our findings indicated that this strain showed excellent color removal performance in cultures containing high-level salt (e.g., 60 g L-1 NaCl). We also quantitatively evaluated the tolerant capabilities of these strains via dose-response assessment at various concentrations of NaCl, KCl, NaNO3, KNO3. Dose-response curves indicated that salt-tolerant capabilities (revealed as EC50; unit: mg L-1) were 53.9, 59.0, 65.0 and 69.4 for NaCl, KCl, NaNO3 and KNO3, respectively. The maximal specific decolorization rates (MSDR) in LB medium (unit: mg L-1 ODU-1 h-1) were RB5(26.4) > RB160(7.68) for NIU-K4. MSDR in cultures laden with 60 g L-1 NaCl was NIU-K4(29.5) for RB5. Plus, we found that NIU-K4 also could generate electricity using microbial fuel cell.

備註

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