電解拋光製程之終點監測方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

091003

專利證號

184171

專利獲證名稱

電解拋光製程之終點監測方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2003/08/01

技術說明

一種電解拋光製程之終點監測方法，係利用於定電流或定電壓下做金屬層之電解拋光，並加 一電壓電流偵測計於電解拋光裝置中。當電解拋光製程進行到阻障層時，由於阻障層與金屬 層阻抗的不同會使電流或電壓產生明顯的變化。因此藉由飽和電流或電壓之變化，以偵測出 電解拋光製程之終點，再藉由對電流或電壓進行回饋控制以停止電壓或電流的供應，並停止 電解拋光的動作。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址