發明
中華民國
103112563
I 539089
奈米吸盤裝置及其操作方法
國立高雄大學
2016/06/21
一種奈米吸盤裝置包含一吸盤基板、數個奈米空穴及一按壓操作面。該吸盤基板包含一第一表面及一第二表面。該奈米空穴排列設置於該吸盤基板之第一表面,以形成一吸附層。該按壓操作面設置於該吸盤基板之第二表面,且該吸附層對應該按壓操作面。該奈米吸盤裝置操作方法:利用該吸附層對應於一待吸附表面;將該吸附層之至少一部分對應貼附於該待吸附表面;利用按壓操作該吸附層之至少一部分,以擠壓排出該奈米空穴內之至少一部分之氣體,以便該吸附層之至少一部分吸附該待吸附表面;將該吸附層之至少一邊緣進行撥開,以便該吸附層之至少一部分剝離該待吸附表面。 A nano-sucker device includes a substrate, a plurality of nano-cavities and an operation surface. The substrate includes a first surface and a second surface. The nano-cavities are arranged on the first surface of the substrate to form a sucker layer. The operation is provided on the second surface of the substrate and corresponds to the sucker layer. An operation method includes: aligning the sucker layer with a predetermined surface; attaching at least one part of the sucker layer to the predetermined surface; pressing the at least one part of the sucker layer to discharge at least one amount of air from the nano-cavities so as to suck the predetermined surface; pulling at least one edge of the sucker layer so as to separate the at least one part of the sucker layer from the predetermined surface.
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