具有散熱基板之發光二極體及其製程

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092135791

專利證號

I 236161

專利獲證名稱

具有散熱基板之發光二極體及其製程

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2005/07/11

技術說明

本發明在提供一種具有散熱基板之發光二極體及其製程，該發光二極體包含一具有可傳導熱的散熱基板、一與該散熱基 板相連結且可反射光之反射鏡、一與該反射鏡相連結之磊晶基材，及一形成於該磊晶基材上且可產生光的發光單元，且 當施加一電壓於該發光單元後可產生光， 並藉該反射鏡反射使光以相反於散熱基板方向輸出。該製程是於一磊晶基材上 形成一可產生光的發光單元，再將該磊晶基材薄化至厚度小於50μm，接著再將一反射鏡及一散熱基板形成於薄化後之磊 晶基材上，完成散熱性佳之發光二極體的製作，並可藉此製程製作大面積、高功率的藍光及/或紫外光發光二極體。

備註

本部(收文號1060063873)同意該校106年8月10日興產字1064300420號函申請終止維護專利 正確發明人僅有洪瑞華及武東星

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