應用於曝光機之結構及其曝光方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

108120731

專利證號

I 709190

專利獲證名稱

應用於曝光機之結構及其曝光方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2020/11/01

技術說明

本發明為一種應用於曝光機之結構及其曝光方法，其係取一定位裝置，其中該定位裝置係包含一底座與一蓋體，該蓋體具有一第一開口，將一承載片放置於該底座與該蓋體之間，並於該承載片之上置放一待曝光片，且該第一開口相對應該待曝光片，該待曝光片面積設置相當於該第一開口之面積，取出具有該待曝光片之該承載片進行曝光程序。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址