發明
中華民國
091135491
I 221026
具銅導線晶片銲線製程之新方法
國立中正大學
2004/09/11
本發明是一種用來改善銅導線晶片銲線製程的方法,根據銅金屬的材料 性質以晶片在溫溼度控制無加熱條件下生成之氧化膜為其障蔽層,藉以 改善銲線製程之困難處。本發明可以再避免許多繁瑣實驗與昂貴設備的 配置,並藉由銅氧化膜作為障蔽層可順利完成銲線製程,為一銲線製程方 法之前瞻性發明,對電子構裝品質的提升助益頗大。
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