具像差最小化之反射式光學掃描裝置Reflective Optical Scanning Sysytem Having Minimized Aberration

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

12/483,026

專利證號

US 7,773,278 B2

專利獲證名稱

具像差最小化之反射式光學掃描裝置Reflective Optical Scanning Sysytem Having Minimized Aberration

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2010/08/10

技術說明

一種具像差最小化之反射式光學掃瞄裝置，係用以將一入射光束進行二維平面掃瞄，並可對代表一被掃瞄物件後所產生之光束進行處理。裝置中包括有一第一掃瞄鏡、一第一球面反射鏡、一第二球面反射鏡、一第二掃瞄鏡、一第三球面反射鏡及一第四球面反射鏡所構成。於上述四面球面反射鏡中，係以該第一、二球面反射鏡及該第三、四球面反射鏡配對補償散光像差，該第一、三球面反射鏡及該第二、四球面反射鏡配對補償慧星像差。藉此，本發明除了可成功補償因斜向入射造成之像差而達到繞射極限之要求外，同時亦由於完全係由反射鏡組成之裝置，經過適當之金屬鍍膜，將可使本反射式光學掃瞄裝置可用波長由紫外光一路橫跨至兆赫波之範圍。 The present invention is a scanning system having spherical reflective mirrors to operate a two-dimensional scanning. Aberration owing to oblique incident light is compensated to reach diffraction limit. With proper metallic coating, the present invention is applicable to wavelength range from ultra-violet to tera-hertz.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址