三維光阻結構的製作方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092123112

專利證號

206786

專利獲證名稱

三維光阻結構的製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2004/06/21

技術說明

本發明提供一種三維光阻結構的製作方法，上述製作方法包括提供一可用於蝕刻之基底。並 利用高速旋塗的方法，形成一光阻層於該基底表面。接著將該光阻層以元件區塊為單位畫分 成複數個微區域，並於各微區域中施予既定之曝光劑量進行選擇性曝光，並適當調整微區域 間隔，可得所需的三維結構。將曝光後之該光阻層直接顯影，以形成連續平滑表面之三維光 阻結構。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址