於一基板上製作圖案時之粒子束狀態調整方法及其系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100140369

專利證號

I 449076

專利獲證名稱

於一基板上製作圖案時之粒子束狀態調整方法及其系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2014/08/11

技術說明

本發明揭露一種調整一或多道粒子束狀態之系統，該系統包含多個粒子感測器、一估測單元以及一控制器，其中一或多道粒子束撞擊至一基板。粒子感測器偵測從該基板反彈之該一或多道粒子束，並對應產生一或多個感測器信號。估測單元根據該一或多個感測器信號執行一數值方法，以估測該一或多道粒子束之狀態資訊。控制器根據該一或多道粒子束之估測狀態資訊，調整或修正該一或多道粒子束之狀態。該基板根據一欲寫圖案逐步地依照一次序進行圖案製作。 A new system architecture for high throughput maskless lithography systems.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址