反射元件結構

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

103140350

專利證號

I 551821

專利獲證名稱

反射元件結構

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2016/10/01

技術說明

　　本專利為一製造反射元件之辦法：將想要製造的反射元件在設計或製造時剖開成為工件，之後提供反射能力給剖開的工件，之後將剖開的工件組裝，使其成為反射元件。此工件的形式可以是散裝、挖槽等形式呈現。剖開的方式可以橫著剖開、豎著剖開、對半剖開等剖開方式。將工件有反射能力的方式有物理氣相沈積法、電子槍蒸鍍/離子槍輔助蒸鍍等方法。為了達到更佳的反射能力，可以在進行提供反射能力此一步驟時，以旋轉、擺動、波動等形式進行提供反射能力，使工件的反射能力能夠更佳。挖槽時的排列形式可以是橫向排列、縱向排列、方形排列、星形排列、三角排列、弧形排列、漩渦型排列、蜂巢型排列、圓形排列、阿基米德螺線形排列等排列形式。 o

備註

本部(收文號1080048903)同意該校108年7月19日中大研產字第1081400892號函所報終止維護專利。

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

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