發明
中華民國
096117928
I 332261
一種堆疊型多位元SONOS式快閃記憶體之製造技術
國立成功大學
2010/10/21
對於各種新式快閃記憶體元件,諸如半導體-氧化層-氮化矽-氧化層-半導體 (SONOS)或奈 米結晶體(Nanocrystals),其已成功地實現於兩位元細胞之製造而大大增加現有資料儲存 能力。本發明揭露一種製造四位元/八位階細胞之方法並較現有兩位元結構增加兩倍之電 荷儲存能力。
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