具奈米結構表面之氟化非晶氧化鈦薄膜及其製作方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101117567

專利證號

I 501917

專利獲證名稱

具奈米結構表面之氟化非晶氧化鈦薄膜及其製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2015/10/01

技術說明

一種具奈米結構之表面氟化非晶氧化鈦薄膜之製作方法與技術，此方法與技術係使用一紫外光燈源透射一具有奈米孔洞之遮罩，選區照射在以電漿增強化學氣相沉積技術於低溫環境下製作之均勻非晶氧化鈦薄膜，藉此選區活化薄膜的光觸媒活性，並利用一稀釋之氫氟酸溶液以化學蝕刻方法，將上述已選區活化之非晶氧化鈦薄膜表面進行選擇性蝕刻，使該表面氟化之非晶氧化鈦薄膜同時具有奈米結構表面特性。故，該具奈米結構之表面氟化非晶氧化鈦薄膜除了具有鈦-氟表面鍵結可以有效活化表面氫氧自由基外，薄膜表面所形成之奈米結構更可以顯著提升與環境中反應物質的接觸比表面積，大幅改善非晶氧化鈦薄膜的光觸媒活性。此項發明具奈米結構之表面氟化非晶氧化鈦薄膜之方法與技術所製作的氧化鈦薄膜具有低成本、低溫製程與可大面積生產之優勢，可據以實現在低溫環境下、大面積生產均勻且特性優異之非晶氧化鈦光觸媒薄膜，符合業界針對各式元件及基材表面自清潔特性改質之量產需求。 A surface fluoride amorphous TiOx (F-TiOx) film with nano-textured surface was prepared by selectively pre-irradiating on the film surface through a nano-sized mask and then etching by the dilute hydrofluoric (HF) solution. A rough surface with nano-textured morphology, which corresponded to a large specific surface area, was obtainable from the amorphous F-TiOx film with the selective pre-irradiation. Due to the specific surface area of the amorphous F-TiOx film was markedly enhanced by using the selective UV light pre-irradiation, the photocatalytic activity of the film with nano-textured surface achieved at room temperature was therefore comparable to that of a high-temperature prepared anatase-TiOx film.

備註

本部(收文號1070068280)同意該校107年9月26日虎科大智財字第1073400101號函申請申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

(05)6315933

網址