具有奈米孔之金屬膜片之製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094131560

專利證號

I258802

專利獲證名稱

具有奈米孔之金屬膜片之製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

遠東科技大學

獲證日期

2006/07/21

技術說明

一種具有奈米孔之金屬膜片之製造方法，包括下列步驟：A.鋁片表面處理；B.在鋁片兩側表面預成凹槽；C.陽極氧化處理；D.除去鋁片上之氧化鋁膜片；E.重複C.D步驟N次；F.第N+1次陽極氧化處理；G.貫通氧化鋁膜片；藉以獲得具有奈米孔之金屬膜片者。本發明係一種具有奈米孔之金屬膜片之製造方法，特別是指一種在鋁片兩面預成凹槽，復將鋁片置於在電解液中進行多次陽極處理，藉以獲得具有規則性奈米孔之氧化鋁膜片者。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

創造力中心

連絡電話

06-5979566-7912

網址