應用液相沉積法成長氧化鋅奈米結構之製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097111635

專利證號

I 385117

專利獲證名稱

應用液相沉積法成長氧化鋅奈米結構之製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2013/02/11

技術說明

應用液相沉積法於氧化鋅一維奈米結構之成長

備註

本部(收文號1060000110)同意該校105年12月30日虎科大智財字第10534002490號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

(05)6315933

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