雙偏振鎖模雷射系統及其增益模組及其控制方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105132780

專利證號

I 620383

專利獲證名稱

雙偏振鎖模雷射系統及其增益模組及其控制方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立陽明交通大學

獲證日期

2018/04/01

技術說明

一 種 雙 偏 振 鎖模雷 射 系 統 ， 包括 ：－激發光源，產生一激發光；－自鎖模共振腔，相鄰於該激發光源，且該共振腔內設置－增益介質並具有－光軸，從而使該激發光進入該增益介質，並產生－自鎖模雷射的輸出；以及－應力施加裝置，設置於該共振腔內且相鄰於該增益介質，並對該增益介質施予－應力，俾使該增益介質產生雙折射現象，以產生一具有雙正交偏振的雷射輸出。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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