一種干涉訊號量測系統與方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

096109656

專利證號

I 324247

專利獲證名稱

一種干涉訊號量測系統與方法

專利所屬機關 (申請機關)

中原大學

獲證日期

2010/05/01

技術說明

本發明之一目的係提供一種干涉訊號量測系統與方法。其主體為基於複合式干涉儀的概念所架構而成,其中用於相位補償的子系統係作為光線延遲之參考端,由於光線延遲裝置在待測物體不同位置的量測間起始位置的不同,使得在待測物體的量測過程中,需有一相位補償之機制。在表面形貌量測的應用裡,材料表面形貌的資訊來自解析干涉訊號的相移(phase shift),經由前述之相位補償機制,干涉訊號量測系統的軸向解析度可達奈米尺度。在薄膜量測的應用上,光束以一預定角度的偏振態斜向入射於樣品表面,以同時量測薄膜之折射率與厚度。在分別測得TE與TM兩種模態的干涉訊號後,經由兩組干涉訊號的相移與強度比即可計算出薄膜之折射率與厚度。 A system and a method of the optical delay line are disclosed.

備註

本部(收文號1090062346)同意該校109年10月13日原產字第1090003950號函申請終止維護專利(中原大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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