在液相環境中沉積金屬氧化物薄膜的方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

107147031

專利證號

I 705936

專利獲證名稱

在液相環境中沉積金屬氧化物薄膜的方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2020/10/01

技術說明

在水相 環境 下，藉由氧化還原法沉積出 ，藉由氧化還原法沉積出 多元金屬氧化物薄膜 ，該薄膜 在低厚度情 況下(< 10 nm) 即展現高連續 度，各組成元素分布均 勻， 各類基板 均可適用(金屬、 陶瓷、 陶瓷、 塑膠、 塑膠、 有機材質、 材質、 複雜 多孔結構 基板等 )，薄膜 附著 力強，且介面 電阻 低。 並可大量生產且成本 低廉。 （

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

連絡電話

(07)525-2000#2651

網址