金屬氧化物輔助雷射脫附游離質譜法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

11/172,554

專利證號

US 7,122,792 B2

專利獲證名稱

金屬氧化物輔助雷射脫附游離質譜法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2006/10/17

技術說明

為了改善使用傳統基質可能衍生出的問題，本發明以溶膠凝膠法合成具有吸收UV雷射能量的二氧化鈦薄膜或粉末，當 做輔助樣品在雷射脫附游離中的基材。

備註

本部(收文號1040087827)同意該校104年12月10日交大研產學字第1041013203號函申請終止維護專利

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