0.1微米以下微影製程之化學微縮方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

090011

專利證號

193081

專利獲證名稱

0.1微米以下微影製程之化學微縮方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2003/12/21

技術說明

本發明提出一種0.1微米以下微影製程之化學微縮技術，適用於一其上具有一特定圖案之阻 劑之基底，包括下列步驟：於具有該特定圖案之阻劑上塗佈一微縮劑；施行一混合烘烤程 序，用以使具有該特定圖案之阻劑與該微縮劑產生交聯反應，而使具有該特定圖案之阻劑變 形成具有一微縮圖案之阻劑；以及除去殘餘未反應之該微縮劑。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址