非線性光學晶體及其製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105112844

專利證號

I 585249

專利獲證名稱

非線性光學晶體及其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2017/06/01

技術說明

以熔鹽或水熱法合成非線性光學材料，並且利用單晶X光繞射與X光螢光光譜決定其晶體結構與組成，結果顯示組成與結構皆為前所未有，是一個嶄新的化合物。並且可以用熔鹽法與水熱法生長大晶體，應用其非線性光學性質。此材料能產生非常強的二次倍頻訊號，與現有商用的硼酸鋇(BBO)倍頻訊號相當，熱穩定至800度C，而且此材料較BBO有更好的雷射損傷閥值。此一結構不僅可以大幅突破現有BBO晶體市場，對於後續非線性光學材料研發有相當大的啟發，可視為新一代非線性光學材料。 Nonlinear optical materials have been synthesized by flux or hydrothermalmethod. Their crystal structures and compositions have been determined by single-crystal X-ray diffraction and X-ray fluorescence spectroscopy, respectively. They are new compounds in terms of compositions and crystal structures. Large crystals for nonlinear optical (NLO) applications have been grown by flux or hydrothermal method. These crystals show a second harmonic generation nearly as strong as that of the barium borate BBO. They are thermally stable up to 800 C. In addition they display a higher laser damage threshold than BBO.

備註

本部(收文號1090071728)同意該校109年11月30日中大研產字第1091401301號函申請終止維護專利(中央)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

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