METHOD OF FABRICATING THIN FILM WITH VARYING THICKNESS

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

17/094,754

專利證號

US 11,499,219 B2

專利獲證名稱

METHOD OF FABRICATING THIN FILM WITH VARYING THICKNESS

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2022/11/15

技術說明

1. 單一製程直接鍍出厚度梯度薄膜，不須額外的黃光或蝕刻製程，製程簡單、降低成本 2. 特定的厚度梯度及厚度範圍可以藉簡單的原理來設計遮板而達成 3. 藉由轉動試片轉盤，克服腔體內部不均，使梯度僅由遮板所控制。因此待鍍物轉盤上不同位置的試片可以得到相同的梯度及相同的厚度範圍，達到批次量產。 4. 藉著遮板與試片轉盤同心圓對準(真空用軸承)轉動的機制達成，機構簡易，不須在腔體內，額外置入轉動或平移的機構及動力裝置 5. 藉著不同的鍍膜時間，在相同位置，可以得到不同的厚度梯度 6. 藉由整合不同開孔設計於同一片遮板及試片擺放位置的調整，在相同鍍膜時間，可以得到不同的厚度梯度。 7. 在同一開孔遮板，不同的試片擺放位置，則可得到相同的梯度但不同的厚度範圍。 8. 藉由搭配不同開孔遮板及試片擺放位置的調整，則可得到更複雜的厚度變化曲線。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智慧財產權中心

連絡電話

03-5738251

網址