具有極低折射率的抗反射構造及含有此構造的裝置Antireflection structures with an exceptional low refractive index and devices containing the same

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

13/961,017

專利證號

US 8,927,437 B2

專利獲證名稱

具有極低折射率的抗反射構造及含有此構造的裝置Antireflection structures with an exceptional low refractive index and devices containing the same

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2015/01/06

技術說明

藉由分可分解性之團聯共聚物，聚苯乙烯-b-聚(L-乳酸) (PS-PLLA)，的自組裝與後續的PLLA團塊水解製得具有五角三八面體奈米通道(gyroid nanochannel)的奈米多孔聚合物。使用該奈米多孔PS作為模板進行溶液-凝膠反應得到具有位於PS主體內的SiO2五角三八面體奈米構造之良好定義的奈米混成材料。該PS主體被UV降解後會留下一高度多孔性五角三八面體網絡，產生了一具有極低折射率(可低至1.1)的單一成份材料。 Nanoporous polymers with gyroid nanochannels can be fabricated from the self-assembly of degradable block copolymer, polystyrene-b-poly(L-lactide) (PS-PLLA), followed by the hydrolysis of PLLA blocks. A well-defined nanohybrid material with SiO2 gyroid nanostructure in a PS matrix can be obtained using the nanoporous PS as a template for the sol-gel reaction. After subsequent UV degradation of the PS matrix, a highly porous inorganic gyroid network remains, yielding a single-component material with an exceptionally low refractive index (as low as 1.1).

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址