Photomask and method for manufacturing photomask

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

14/753,580

專利證號

US 9,690,188 B2

專利獲證名稱

Photomask and method for manufacturing photomask

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2017/06/27

技術說明

本技術係有關於接觸式立體碳黑光阻光罩，其光罩包含一基板以及一遮光層。基板可以是任何可穿透紫外光之材料，基板表面具有金字塔或角錐結構，形狀可以為任何下寬上窄之立體結構。基板表面具有凸出結構或凹陷結構，形狀可以為任何階梯狀之立體結構。遮光層為一具高遮光率的可旋轉塗佈溶液，可經由加熱固化或光固化方式附著於立體結構表面。遮光層可利用旋轉塗佈的方式設置於基板表面，部分或完全覆蓋立體結構。由於遮光層是用旋轉塗佈的方式設置於基板表面，因此光罩製作方式簡單且快速，且均勻性佳。 A method for manufacturing a photomask is provided. The method includes at least below steps. Provide a flexible substrate. Multiple microstructures are formed on the substrate. Coating an opaque resin on the substrate and solidified the opaque resin to form an opaque layer. The opaque layer is a uniform layer.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

連絡電話

06-2360524

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