應用於製備磁性薄膜之熔融鹽電解質及其製備方法 | 專利查詢

應用於製備磁性薄膜之熔融鹽電解質及其製備方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

095129969

專利證號

I 334889

專利獲證名稱

應用於製備磁性薄膜之熔融鹽電解質及其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立雲林科技大學

獲證日期

2010/12/21

技術說明

是一種應用於製備磁性薄膜之熔融鹽電解質及其製備方法,至少包含一種非水溶液熔融鹽電解質,因熔融鹽電解質中不包含氫離子與氧離子,故可利用電化學沉積法得到含有釓與鋱等稀土元素之磁性薄膜。並於適當之操作溫度、定電壓與脈衝電壓等條件下,可得到具有垂直磁異向性之薄膜。本發明是有關於一種應用於製備磁性薄膜之熔融鹽電解質及其製備方法,且特別是有關於一種以電化學沉積法製備垂直磁異向性薄膜之熔融鹽電解質及其製備方法。 A preparing method foe molten salts electrolyte applied to produce magnetic thin film is disclosed. It includes a kind of molten salts electolyte, not an aqueous solution. Because of the molten salts electrolyte have no hydrogen ion and oxygen ion, so applying electro-chemical deposition to produce magnetic thin film that containing rare-earth element, like Gd and Tb. If operating temperature, constant voltage and pulse voltage is appropriate, then perpendicular magnetic anisotropic thin film could be produced.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財管理組

連絡電話

(05)5342601轉2521


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