電鍍基板具反射鏡面之高亮度發光二極體及其製造方法LIGHT EMITTING DIODE WITH PLATED SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

10/668,555

專利證號

US 7,781,785 B2

專利獲證名稱

電鍍基板具反射鏡面之高亮度發光二極體及其製造方法LIGHT EMITTING DIODE WITH PLATED SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2010/08/24

技術說明

本發明主要係關於一種電鍍基板具反射鏡面之高亮度發光二極體及其製造方法。該方法 係於鍍設金屬鏡面反射層後，於 其底部使用電鍍法形成金屬永久基板；抑或鍍設一介電鏡面層及一金屬導電層後，於其 底部使用電鍍法形成金屬永久基 板，此法可有效降低製造成本，並可維持反射鏡面之反射率，有助於提高LED發光效率。 具電鍍基板之高亮度發光二極 體，更可該善傳統結構散熱功效不佳之缺點。

備註

本部(收文號1060063873)同意該校106年8月10日興產字1064300420號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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