應用聲子輔助光放大技術之半導體雷射元件及其製作方法 | 專利查詢

應用聲子輔助光放大技術之半導體雷射元件及其製作方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094130110

專利證號

I 268002

專利獲證名稱

應用聲子輔助光放大技術之半導體雷射元件及其製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2006/12/01

技術說明

可用於開發半導體矽雷射,有別於現有的雷射概念,使用材料是容易取的矽 元素,將現有光電產業之外開創新產品.本技術所開發出來的雷射,不但製程 簡單,而且作再矽晶板上,因此可以和目前的矽晶片積體電路完全整合.

備註

本部(收文號1060029841)同意該校106年5月4日校研發字第1060033342號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945


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