微透鏡製造方法METHOD FOR FABRICATING MICROLENSES AND PROCESS OF SINGLE PHOTOMASK PATTERN-BASED PHOTOLITHOGRAPHY

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

12/356459

專利證號

US 7,713,453 B2

專利獲證名稱

微透鏡製造方法METHOD FOR FABRICATING MICROLENSES AND PROCESS OF SINGLE PHOTOMASK PATTERN-BASED PHOTOLITHOGRAPHY

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2010/05/11

技術說明

一種微透鏡製造方法以及以單一光罩圖形搭配光蝕刻微影技術，係提供基板並於基板表面形成複數個微型洞結構(Micro-holes)結構，再於各微型洞結構中置入透鏡材料，接著加熱各透鏡材料進而使其熱融(Reflow)而成複數個透鏡單元。該微型洞結構係用以界定該透競材料熱融成透鏡單元之邊界(Boundary Of Lens)，進而避免傳統微透鏡製造方法中，因加熱過度而使兩相鄰的透鏡單元熱融接合之問題。該以單一光罩圖形搭配光蝕刻微影技術則係利用負光阻與正光阻分別建立微型洞結構與透鏡材料，進而將本發明有效率應用於現代化製程之微透鏡製造方法。 A method for fabricating microlenses and a process of single photomask pattern-based photolithography are provided. The method includes providing a substrate, forming a plurality of micro-holes on the substrate, disposing lens material in the micro-holes, and heating the lens material, thereby reflowing the lens material so as to form a plurality of lens units. The micro-holes define a boundary of lens of the lens units formed by reflowing the lens material, thereby preventing adjacent lens units from fusing together by reflowing when overheated. The process uses negative photoresist and positive photoresist as micro-holes and lens material respectively, thereby streamlining the method and the process.

備註

本部(收文號1100033534)同意該校110年6月9日校研發字第1100036312號函申請終止維護專利(台大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

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33669945

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