含二次非線性光學基團之聚醯亞胺、其衍生物及其製法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094122124

專利證號

I 312790

專利獲證名稱

含二次非線性光學基團之聚醯亞胺、其衍生物及其製法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2009/08/01

技術說明

一種含有二次非線性光學基團之聚醯亞胺,包含一聚醯亞胺主鏈及一作為側鏈且由下式(C2)所示之發色團:於該式(C2)中,R2表示為一經選自於由下列所構成族群之取代基所取代之苯基或苯基烯基:NO2、COCH3、CN、SO2NH2、Br、Cl及此等之一組合。本發明另提供一種用於製備上述含有二次非線性光學基團之聚醯亞胺之方法以及一種含有二次非線性光學基團之聚醯亞胺衍生物。 一種含有二次非線性光學基團之聚醯亞胺,包含一聚醯亞胺主鏈及一作為側鏈且由下式(C2)所示之發色團:於該式(C2)中,R2表示為一經選自於由下列所構成族群之取代基所取代之苯基或苯基烯基:NO2、COCH3、CN、SO2NH2、Br、Cl及此等之一組合。本發明另提供一種用於製備上述含有二次非線性光學基團之聚醯亞胺之方法以及一種含有二次非線性光學基團之聚醯亞胺衍生物。 NONE

備註

本部(收文號1030050277)同意該校103年7月9日1030002735號函申請終止維護專利

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