波浪狀光罩的製作方法及利用波浪狀光罩製作奈米週期結構之曝光方法METHOD OF FABRICATING WAVE-SHAPED MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE METHOD OF FABRICATING NANO-SCALED STRUCTURE USING THE WAVE-SHAPED MASK

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

13/424,119

專利證號

US 8,748,061 B2

專利獲證名稱

波浪狀光罩的製作方法及利用波浪狀光罩製作奈米週期結構之曝光方法METHOD OF FABRICATING WAVE-SHAPED MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE METHOD OF FABRICATING NANO-SCALED STRUCTURE USING THE WAVE-SHAPED MASK

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2014/06/10

技術說明

在軟性透明基板的表層，先製造出奈米週期的波浪型結構，以作為微影時所用的光罩，並製做出週期性奈米結構的圖案；此週期性奈米結構可應用於太陽能電池表層幫助吸收光的效率，也可以應用於發光二極體表層幫助特定波長發出光的效率及偏極化以建構3D 影像，亦可用於取代顯示器面板的彩色濾波器及偏光片, 最後亦可製成生醫偵測器在可見光波段對微生物或細胞的檢測。此方法技術相較傳統超短波長紫外光顯影技術、浸潤高折射率溶液內干涉顯影技術、電子束顯影技術、奈米壓印技術所製造出的奈米週期及奈米結構，更具備可大面積製作、製程簡便、成本低廉…等特性。 It is demonstrated that a tunable nano-scaled structure can be easily fabricated on elastomeric transparent substrate which is used as a mask for photolithography. This provides a simple and low cost process to manufacture a large area of nano-structure patterns.

備註

本部(收文號1100033534)同意該校110年6月9日校研發字第1100036312號函申請終止維護專利(台大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

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