負形拋光裝置與方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094107050

專利證號

I 292731

專利獲證名稱

負形拋光裝置與方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2008/01/21

技術說明

本發明是提供一種負形拋光裝置與方法，且本發明更特別地係關於一種適用於非球面鏡片的負形拋光裝置與方法。提供具有特殊拋光層且可容許微小變形的拋光頭，即可以類似於傳統球面鏡拋光方法，直接對於非球面鏡片進行拋光，並達到良好的拋光效果。該拋光裝置包含一基座，用以承載一工件；以及一拋光頭，其係位於該基座之上方，且該拋光頭具有一拋光層，其係由一樹酯、一磨粒以及一石墨所製成，用以對該工件進行拋光；一緩衝層，其係連接於該拋光層，用以使該拋光頭具有傾斜與側移的自由度；以及一金屬軸，其係連接於該緩衝層。 The present invention provides a polishing apparatus and a polishing method, which are particular for the aspherical lens. The polishing apparatus includes a base for carrying an object;and a polishing head, wherein the polishing head has a polishing layer made of the resin, the diamond and the graphite for polishing the object;a buffer layer connected to the polishing layer for the polishing head to tilt and shift;and a metal shaft connected to the buffer layer.

備註

本部(收文號1050070266)同意該院105年8月23日國研業字第1050102309號函申請終止維護專利

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連絡電話

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